紫外曝光机,也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是印刷线路板(PCB)制作工艺中的重要设备。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

其主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

 

紫外曝光机镜片 系统组成及其工作原理:

传统曝光机光学系统主要由光源(高压球形汞灯)、椭球面反光杯、冷光镜、透射式复眼光学透镜阵列、二向色镜和球面平行光反射镜组成。

其中,光刻机内部的反射镜会积聚来自 EUV 光源的锡碎屑。光源发出的光被椭球面反光杯聚焦后,经冷光镜反射到复眼透镜阵列场镜,从投影镜出射的光到达二向色镜,

光谱中的紫外部分被50%透射,50%反射后,到达两块对称分布的大面积球面平行反光镜,被准直反射到晒板上对PCB板进行曝光。

 

“EUV光刻机的光源是极紫外光,所以其实际上叫做极紫外线光刻机。而蔡定平教授团队研发的新型真空紫外非线性超构透镜,能够产生和聚焦极紫外光,并能够将波长395nm转化为197nm 。聚焦光点的功率密度比超构透镜高了21倍。”

据悉,这一突破能够应用于EUV光刻机之中,帮助国产光刻机突破技术瓶颈。并且,这一技术还属于EUV光刻机的核心技术,对实现EUV光刻机自主有重大意义。

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紫外曝光机、光刻机会使用到的光学元件包含:光学透镜、光学棱镜、TIR棱镜、光棒、滤光片、衰减片、反射镜。

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